二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9078880 待售

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ID: 9078880
晶圆大小: 8"
PVD system, 8" (2) Co-Titanium Chamber 101-TiN Chamber Aluminium / 0.5% Cu Chamber Pre-clean II Chamber PVD Style Degas Chamber Flat Align Chamber.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种半导体等离子体蚀刻反应器和沉积系统。该反应堆在世界范围内使用,以性能和可靠性着称。它是一种用户友好、成本效益高的蚀刻和沉积薄膜的工具。AMAT ENDURA由等离子体源和工艺室两个不同的子系统构成。等离子体源是磁控管溅射系统,过程室是多阴极反应性离子蚀刻器。这种组合提供了一个通用的晶片加工平台,能够对多种材料进行高精度的干蚀刻和沉积,并能够对材料进行先进的修改和基板修复/焊接。该工艺室设计用于蚀刻和沉积各种材料,从金属到聚合物。APPLICED MATERIALS ENDURA的一个独特之处是提供多个蚀刻室,用于蚀刻晶圆的不同层。这提供了对蚀刻深度和均匀性的更大控制,允许制造复杂的三维结构。ENDURA利用多种气源进行蚀刻和沉积步骤。为了进行蚀刻,反应器可以使用氧气/氮气、氯气/氟气或稀有气体化学,用于气态、液态或固体表面。这种多种化学方法有助于优化蚀刻选择性,从而确保装置结构的更大稳定性和重复性。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA的沉积能力同样令人印象深刻,包括一系列低温过程,如原子层沉积、化学气相沉积、紫外线反应沉积和离子辅助过程。这样就可以以极高的精确度沉积各种薄膜以及复杂的多层堆栈。APPLICED MATERIALS/AMAT ENDURA因此成为半导体制造行业的重要工具,其多子系统结构是将蚀刻、沉积和其他晶片处理步骤集成到同一平台上的绝佳范例。APPLICED MATERIALS ENDURA结合了蚀刻和沉积能力,能够提供制造日益复杂的半导体器件所需的关键精度和控制。
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