二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9115932 待售
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ID: 9115932
晶圆大小: 8"
PCVD System, 8"
Front panel type: Norrow
SMIF: No
SBC Controller: V440
Ion gauges: Nude
Buffer robot: HP
Transfer robot: HP
Blade material: STD
Load lock type: Narrow body
Index handler type: Manual
Loadlock vents type: STD
PVD Chamber details:
Chamber #1
Body type: WIDE
Source type: G12
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-20768
Chamber #2
Body type: WIDE
Source type: G12
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-20768
Chamber #3
Body type: WIDE
Source type: 12.9 G3
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-21940
MFC:
Chamber #1
MFC Type: AERE
Gas: AR
Size: 100, 50
Chamber #2
MFC Type: STEC4400
Gas: N2
Size: 100, 200
Chamber #3
MFC Type: STEC
Gas: N2
Size: 200
Chamber #3
MFC Type: AERA
Gas: N2
Size: 50
Chamber D
MFC Type: SEC-V100
Gas: N2
Size: 200
NESLAB II Chiller
(2) Cyro 9600 Compressors
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于沉积专门用于半导体应用的薄保形涂层。该设备还可用于其他应用，如空心阴极磁控管溅射（HCMS）和物理气相沉积（PVD）。AMAT ENDURA是一种全尺寸的CVD反应器，使用等离子体增强的CVD（PE-CVD）工艺。与传统的批量CVD工艺相比，PE-CVD使沉积物具有明显更薄、更保形的涂层。该系统具有水平反应堆室，允许最大吞吐量与有限的表面积。此外，腔室冲洗和排气单元和大型加工窗口可用于各种前体气体。APPLICED MATERIALS ENDURA的端点检测机设计为在涂层厚度读数上提供高度可靠的精度。专门为ENDURA反应堆设计的自动化工艺控制器提供精确的工艺控制，使用户可以确保每种基板均匀涂层。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA反应堆可以进一步配置各种组件，如气体输送系统、水冷表面和自动装载系统，为特定的工艺应用定制工具。例如，其他常见组件包括：载波晶片传输和处理资产、真空模型和自动晶片映射设备。AMAT提供全面的服务、预防性维护计划、备件和工艺培训，以确保适当的系统运行和优化。除了这些服务之外，他们的高级软件和硬件升级可以帮助显着延长设备的使用寿命。AMAT ENDURA反应堆是半导体工业大批量生产以及研发应用的理想选择。它操作简单，为薄膜涂层的受控沉积提供精确、可靠、准确的性能。
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