二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9126392 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9126392
晶圆大小: 8"
PVD, 8",
L/L: Narrow
Buffer/Xfter robot: HP
Chamber A: pass
Chamber B: cool
Chamber E: orienter-degas
Chamber F: orienter-degas
Ch-1: AlCu
Ch-2: AlCu
Ch-3: AlCu
Ch-4: AlCu
AC line voltage: 480V delta
AC Full load current: 250A
AC Frequency: 60Hz
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种专为高容量和高通量半导体蚀刻和沉积工艺而设计的高功率化学反应器技术。这种多用途的设备提供特殊的腔室设计和过程控制,以支持生产复杂的部件。该系统非常适合各种先进的材料沉积和蚀刻需要,并提供了一套灵活的工具。AMAT ENDURA装置主要用于化学气相沉积和蚀刻工艺.利用微波和射频(RF)将CVD腔室内容物保持在等离子体状态。微波能量用于产生前体和自由基,然后可以用来将特定的目标材料沉积在晶圆或基板上。RF能量用于维持均匀的等离子体和驱动反应速率。这确保了均匀的薄膜堆积和较高的沉积速率。反应堆包括中压CVD机、高压CVD工具、MFC兼容处理资产、动态微波排气模型、有源气体溷合模块、微机电系统(MEMS)处理室等几个强大的处理选项。多工艺设备旨在扩大现有材料沉积和蚀刻工艺的范围。该系统还提供卓越的控制和准确性,允许用户根据需要轻松调整流程参数。APPLICED MATERIALS ENDURA单元利用了几种先进的技术来达到精确的效果。它配备了一个过程监测机,使用来自每个腔室的反馈回路,以确保整个工具操作正确。资产还包括质量流量控制(MFC)模型,以确保精确的物质流向腔室和整个设备的精确气体流动。反应堆还具有整体温度控制功能,可方便调整以适应不同的应用。此外,扫描仪和执行器完全集成到系统中进行精确的后期处理。这样可以实现更好的控制和更准确的结果。总体而言,ENDURA装置是精密先进材料蚀刻沉积工艺的理想选择。它提供了出色的工艺控制,可以加工的材料种类繁多,操作可靠。该机的多功能性和精确的温度控制使其成为制造复杂部件的强大工具。
还没有评论