二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9157987 待售
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已售出
ID: 9157987
PVD System
Aluminum deposition
Cold aluminum with Ti-TiN
Mainframe: 150mm with tiltout cassettes
Buffer: HP Robot
Transfer: HP Robot
Chamber C: Empty
Chamber D: Empty
Chamber 1: Clamp standard PVD heater, Aluminum 350 C
Magnet part: 0010-20224
Chamber 2: Clamp standard PVD heater, Aluminum 350 C
Magnet part: 0010-20224
Chamber 3: Clamp standard PVD heater, Titanium 100 C
Magnet part: 0010-20221
Chamber 4: TiN 101 pedestal
Magnet part: 0010-20223 or 0040-20129.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种化学气相沉积(CVD)反应器,通常用于材料制造过程。该设备的工作原理是在高达1050°C的温度下分解气态物质,通常使用六甲基二硅烷(HMDS)作为前体。分解过程产生一个由硅、氧和碳元素组成的气相,这些气相粒子随后与目标基板相互作用,从而在基板上形成材料薄膜。对AMAT ENDURA进行了优化,使薄膜沉积具有最大的柔韧性和均匀的质量。该系统由几个单元处理部分组成,如Prime Station、Interlocks和基板处理控制器。Prime Station是反应堆的中央控制单元,操作员在其中设置沉积过程的参数,包括反应物种类、加热器功率、温度、腔室压力和底物温度。它还监视进程参数,并在任何参数从其设置中脱落时具有一组警告指示器。Interlocks是用来监测反应堆状况和基板工艺控制器的电子控制装置。Interlocks通过温度、压力和气流的测量以及底物的运动来控制反应室环境。基板工艺控制器负责通过控制基板的角运动以及反应物气体的流速和组成来保持基板温度和均匀涂层在基板上的生长。该机还具有广泛的辅助组件集合,用于确保可靠的工艺操作,如源管、样品进纸器、波纹管和气泡。源管为反应室提供气相化学前体,而样品送料器则协助将固体物质引入反应室。波纹管是隔离器和温度测量装置的组合,可以对反应室进行精确的温度控制。气泡器还有助于将反应物气体引入反应堆。APPLICED MATERIALS ENDURA非常高效,因为它旨在实现对薄膜沉积过程的精确控制,减少加工所需的基板数量。此外,它适用于广泛的应用,从一般的半导体加工到光伏和光电器件的制造。它的可靠性和灵活性使得它成为任何类型的薄膜沉积工艺的绝佳选择。
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