二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9174930 待售

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ID: 9174930
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
PVD System, 12" TiCL4 ALD Processing chamber Gases: L1: Ar (HP) L2: C2H4 (Ethane) L3: H2 L4: He L5: N2 (HP) L6: N2 L7: N2 L8: NH3 L9: SiH4 (Silane) Missing parts: Turbo molecular pump Vacuum fore-line pieces Heated gas delivery lines (Removed as part of decon) Throttle valve Gate valve Process kit (Interior chamber shielding) Chamber to M/F, I/O Cabling 2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种革命性的等离子体蚀刻反应器,旨在实现半导体和其他先进技术制造过程中更快、更精确、更一致的等离子体蚀刻。这座新的蚀刻反应堆包括独特而强大的特性和能力组合,可以提高吞吐量和提高产量。该反应堆采用单室设计,允许在同一设备中进行多种不同的工艺,并具有灵活性,能够对多种材料进行高质量蚀刻,包括聚硅、聚酰亚胺、聚硅酸盐、聚氧化物和氮化物。该系统高效可靠,具有一组高级功能,可提供卓越的性能,同时减少维护需求。它包含一个独立的阀门前线,使用户能够保持一致和可重复的预设,并提供更好的工艺参数控制。此外,AMAT ENDURA等离子体蚀刻反应器在气体化学、射频功率、压力和批量等多种不同的化学和工艺变化条件下也能很好地发挥作用。APPLIED MATERIALS ENDURA还采用了现有自动端点检测(AED)单元的改进版本,旨在让客户能够一致、更精确地监控和控制蚀刻过程。AED利用特征识别算法,可以实时唯一地识别和分类流程端点。这确保了可实现的最高蚀刻速率,降低了复杂性,降低了下游污染的风险。该机器还为用户提供了许多有用的过程保护功能,例如远程等离子体源关闭、故障条件的自动配方切换以及监视过程的多个选项。这些安全功能共同确保了产品质量的优越和从工具到资产的一致性能。ENDURA等离子体蚀刻反应器是半导体制造先进工艺的一个完整而有力的解决方桉,提供高质量的蚀刻效果,提高产量和提高效率。此模型的特点和功能使其成为任何蚀刻应用程序的理想选择,提供可靠且可重复的性能,降低风险并高度控制过程。
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