二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9193023 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9193023
Chamber SIP Encore type source assembly and magnet SIP Encore adapter Widebody with shutter assembly 3 Phase enhanced cryo pump E-Chuck assembly Pulsed DC (5 kW).
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor是一种先进的半导体级物理气相沉积(PVD)系统,设计用于生产当今最难制造的器件。它提供了均匀的薄膜沉积,不需要频繁的人工干预,并提供了广泛的工艺能力。AMAT ENDURA PVD反应堆具有等离子体增强的感应耦合源和独特的工艺室设计,能够对包括铜和其他金属薄膜在内的多种材料进行卓越的总厚度控制、腔室和目标均匀性以及形状控制。APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是一种单卸载工具,可以处理批量和集群配置中的各种尺寸和封装。它设计为与硬件和软件完全自动化,以便于工厂自动化工具的集成。这种自动化能力允许更高的质量和更有效的生产产量。ENDURA PVD Reactor提供出色的温度均匀性、腔室绝缘和目标到晶圆距离,以提供卓越的粒子控制和工艺一致性。其库存材料能力可提高生产率和提高质量,而其预测性维护功能可促进主动维护和简化整个系统操作。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor还具有模块化运行室设计、低维护部件和直观界面。AMAT ENDURA Reactor凭借其多种产品选项提供了极大的可扩展性和灵活性,为最终用户提供了优化其特定工艺的能力。该反应堆还具有广泛的工艺能力,如:多层沉积、高纵横膜比、多步金属化,以及改进的隔离而无需过程诱导的蚀刻。所有这些特性在半导体市场非常重要,在半导体市场上,复杂的器件必须以极高的精度和精确度制造。总体而言,APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor是一种可靠、精确且经济高效的工具,适用于最具挑战性的要求最高的半导体制造环境。它具有卓越的性能,具有出色的均匀沉积和出色的形状控制,是提高生产效率和缩短循环时间的理想选择。ENDURA PVD反应堆是在当今最复杂、最具挑战性的微电子器件生产中统一控制制造的宝贵工具。
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