二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198493 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA反应器是为高精度薄膜沉积而设计的先进半导体沉积设备。该系统能够自动化多个薄膜过程，包括物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。它支持多个应用模块，如Multi@@-Zone、High@@-Density Plasma和Advanced Showerhead。这使得高精度涂层工艺具有宽广的工艺窗口。AMAT ENDURA单元的设计满足了半导体制造商的需求，包括先进的工艺控制、高速生产和高精度涂层。该机器能够为每种材料建立最佳的工艺窗口，并提供先进的工艺控制和高吞吐量。此外,它优化的组件设计使其工具能够最大限度地满足各种工艺要求。资产由工艺室、真空泵、工艺泵及控制、热管理、真空运动学等多个部件组成。采用离子淋浴头技术将薄膜非接触均匀沉积到晶片上。它还具有多区等离子体源，均匀沉积，高通量。APPLICED MATERIALS ENDURA模型利用PECVD和CVD技术沉积硅基材料，也使金属和金属氧化物材料沉积成为可能。它支持广泛的等离子体工艺参数，提高沉积均匀性，允许生产保形薄膜。该设备还支持真空运动学输送系统，该系统允许在基板上快速、准确和不间断地输送材料。ENDURA单元还有一个用户友好的界面，允许操作员快速调整参数以优化沉积过程。机器还包括各种软件工具，允许用户监视和控制工具。此外，资产还具有先进的安全和维护能力，包括自动清洗腔室，并在任何工艺设置达到极限时发出通知。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA反应堆是专门为满足先进半导体制造工艺需求而设计的先进反应堆模型。它具有多种组件设计，以确保高精度薄膜沉积和保形涂层，先进的工艺参数，以及用户友好的界面。这些设备可帮助制造商提高生产率、减少变化并增强工艺控制。