二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198505 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor是一种先进的去原位化学气相沉积（CVD）设备，主要用于制造大规模、高性能的半导体器件。AMAT ENDURA反应堆能够沉积各种材料，包括但不限于；单晶或多晶硅（Si）、的（Ge）、碳纳米管（CNTs）等导电纳米合金。与较旧的平台技术相比，应用材料ENDURA反应堆在成本和能力方面都取得了重大进展。ENDURA CVD系统由三室垂直热墙设计组成。第一个腔室是负载锁,它可以更快、更安全地交换基材.中间室是材料沉积、沉积速率控制的加工室。最后一个密室是清除任何剩余材料单位的净化室。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反应堆效率高，拥有成本低。AMAT ENDURA反应器能够直接沉积到非常大的基板上，达到200 mm晶圆，具有高速沉积能力。这样可以实现较高的吞吐量,并在较大批次的基材上获得较高的产量。此外,APPLICED MATERIALS ENDURA反应器采用先进的工具和资源设计,可以更好地控制机器的行为,从而提高过程的可重复性和正常运行时间。ENDURA CVD反应器提供直接晶片温度控制，是控制薄膜沉积均匀性的附加优势。它还具有多区域循环加工能力，带有板载基板加热工具和气体溷合模块，可以更好地在整个基板上进行均匀性控制。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD资产还配备了Auto-Gap功能,该功能可自动设置基板到淋浴头的距离,以实现一致的沉积速率和均匀性。AMAT ENDURA CVD模型可用于各种行业的一系列应用，如薄膜光学材料的生产、薄膜金属化层和半导体器件的制造。这些功能将使可再生能源、半导体、电子和航空航天工业等广泛行业受益。综上所述，APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反应堆是一种革命性的异地化学气相沉积设备，旨在提供出色的沉积速率、均匀性和低拥有成本。ENDURA为用户提供了直接晶圆温度控制、多区域循环过程功能和自动间隙功能等先进工具,使其成为开发大型高性能半导体器件的理想平台。