二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198513 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9198513
CHC I/O Lift assy Part number: 0010-03438.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA反应器是一种通用、高效的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备。它旨在为各种半导体器件制造应用提供卓越的工艺性能和可靠性。AMAT ENDURA可实现各种金属和电介质的外延沉积、栅极氧化物的形成和接触层的沉积。它配备了先进的直接喷射等离子体源,以实现超快速的腔室疏散和均匀的等离子体密度分布,以及高度控制的过程温度,以确保可靠的设备性能。APPLICED MATERIALS ENDURA反应器利用PECVD和电子回旋共振(ECR)技术提供卓越的工艺控制和通量。PECVD工艺通过ENDURA基于硅酮的前体输送系统实现了具有所需厚度、速率和起伏的层的可重复、均匀沉积。与传统的射频源相比,ECR技术提高了工艺性能和可靠性,降低了运行成本。它还提供卓越的均匀性和改进的基板温度控制,而不牺牲吞吐量。AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA的设计非常灵活,使用户可以轻松地为各种应用配置单元。通过使用可互换的模块和组件,反应堆可以定制,以满足额外的气体管线和组件、石英腔室的变化以及源应用等特定的工艺需求。它还具有全面的控制包,可提供全方位的过程控制和优化功能。AMAT ENDURA利用专有的基于等离子体的预清洁技术来确保沉积过程之前的清洁晶圆表面。这种预清洁技术从晶圆表面清除有机和无机污染物,从而在沉积和蚀刻过程中取得优异的效果。预清洗过程还减少了晶圆损坏的可能性,这可能与湿清洗技术有关。APPLICED MATERIALS ENDURA反应堆是PECVD和ECR应用的卓越机器,提供了更好的工艺性能和成本节约。其高性能、灵活性和过程控制确保用户能够以高效和可靠的方式实现所需的结果。ENDURA具有广泛的功能和性能,非常适合先进的半导体器件制造应用。
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