二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198516 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是一种先进的等离子体沉积系统，设计用于制造半导体器件的铜基互连和屏障层。它是一个单一的晶圆反应器，结合了新的等离子体源技术，以确保均匀的层和更大的过程控制。AMAT ENDURA反应堆具有先进的磁控管双源架构，允许两种不同的等离子体等离子体以接近相等的能量发射。这提供了高度的等离子体均匀性，具有极好的控制沉积速率。它还允许在每个处理步骤中沉积多层，不需要蚀刻和其他热处理。其先进的编程能力允许精确和可重复的沉积，以达到预期的结果。APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor利用多种沉积材料，包括铜、钴、钨和各种金属，为互连和电路通路提供层。利用先进的等离子体均匀性、高沉积速率和增加的过程控制，使得ENDURA能够快速获得高质量的互连。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor配备了强大的等离子体电子回旋共振电离源，提供了非凡的等离子体均匀性和较高的沉积效率。这确保了铜和铜合金层极均匀的沉积，并使先进的铜互连成为可能。AMAT ENDURA具有一个气体输送系统，可实时测量气体流量并进行相应调整，从而实现更高程度的控制。APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor还包括许多其他功能，如高性能的RF臭氧发生器、先进的可编程性，以及用户友好的控制，允许非常精确和可重复性。这为用户提供了及时实现最高质量互连和电路通路的能力。此外,ENDURA的设计与各种基材兼容,提高了铜基材料的工艺灵活性。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是一种先进的等离子体沉积系统，为铜基互连层和屏障层提供出色的过程控制、均匀性和增加的沉积速率。它通过先进的磁控管双源架构、强大的基于等离子体的电子回旋共振电离源以及众多其他特点来实现这一点。这使得AMAT ENDURA反应堆非常适合快速可靠地实现高质量的互连和电路通路。