二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198546 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种化学气相沉积（CVD）反应器。它能够生产高质量、低温的多种材料薄膜，如二氧化硅、氮化硅、钨等。它可以在广泛的温度范围内沉积材料，使其适合半导体、LED和可再生能源行业的多种应用。AMAT ENDURA反应堆呈圆柱形，围绕组件的中央排列而建。它由一个可以在水平位置和垂直位置之间切换的工艺室、一个能够准确定位磁感器的机械升降机组件、一个射频发生器和匹配网络、一个工艺气体分配设备以及一个工艺控制系统组成。APPLICED MATERIALS ENDURA CVD反应器的工艺室被用于操纵材料沉积的环境。它利用工艺气体、热量和压力的受控气氛来合成所需的薄膜。腔壁由干压烧结的碳化硅制成，具有高温能力，耐侵蚀。腔室的角落装有可拆卸的石英衬砌窗，以便进行原位光学分析。采用射频发生器和匹配网络为反应室提供电源，可调整至所需频率。机械提升组件提供了磁感器的精确垂直运动，而磁感器是材料沉积的基础。它使用气动执行器，可以将感应器升降到所需位置。感光器本身由石墨制成，加热到所需温度。也用来释放电荷。工艺气体分配单元确保工艺气体以适当的速率和压力流向工艺室。它由一个喷射器、阀门和一个歧管组成。喷射器供应指定的工艺气体，阀门调节各自的流量。该工艺气体歧管由一系列板和管组成，这些板和管将气体从喷射器流向工艺室。ENDURA CVD反应堆的过程控制机允许用户调整与反应运行相关的不同参数，如过程气体流量、温度、压力和施加电压。它还允许用户监控工艺室内的温度和压力以及传递给工具的电力。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反应器是一种高效可靠的工具，可用于制造各种对沉积过程进行精确控制的碳基薄膜。它的设计注重安全性和高效的处理,使其成为任何敏感应用程序的理想选择。