二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9240194 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9240194
晶圆大小: 8"
System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一种高品质的闭环化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于薄膜晶体管(TFT)在半导体工业中的沉积应用。AMAT ENDURA反应器使用双区沉积室,允许严密控制热环境,以确保膜沉积均匀,对沉积过程具有更高的温度敏感性。APPLICED MATERIALS ENDURA反应器被设计为在大型活动区域上提供卓越的膜均匀性,同时保持优异的器件性能。ENDURA反应器设计有简化的机械元件,提供最佳的基板交换、气体输送和沉积时的均匀性。反应堆包含一个内部气体歧管和阀门,允许精确的气体输送到基板。双区腔室允许在晶片上单独控制热梯度,以加强工艺控制和均匀的薄膜沉积。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA反应器还包含一个高效磁性冷却设备,在交换基板时减少热冲击。AMAT ENDURA反应器具有稳定的沉积特性,薄膜性能变化最小.它还能够以极高的精度沉积高导电性和复杂的材料型材。APPLIED MATERIALS ENDURA反应堆实现的优越的均匀性,使其成为超级逻辑、有源矩阵液晶、高速逻辑驱动等应用的绝佳选择。ENDURA反应器是一种功能极为强大且用途广泛的CVD系统,能够沉积多种材料,包括非晶硅、多晶硅、SiGe和SnO2。该机组有一个遥控箱,便于对反应堆进行监测和运行。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA反应堆采用紧密耦合的气体输送机提供热控制,从而实现高产率和薄膜性能的最小变化。AMAT ENDURA反应堆可靠、易用、性价比高。其优越的均匀性、精确度和准确性使其成为半导体工业中广泛的器件应用的理想选择。APPLICED MATERIALS ENDURA反应堆提供了最高的性能加上可靠、经济高效的沉积能力,对于那些在半导体行业寻找高质量和可靠沉积系统的人来说是绝佳的选择。
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