二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9263425 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA双作用反应器是专门为CVD处理而设计的熔融二氧化硅内冷等离子体反应器。该反应器是先进半导体器件制造的先进沉积设备.它同时使用紫外线（UV）和根本活化的等离子体，产生一个均匀沉积的材料，适合于超薄的栅极电介质和导电层。AMAT ENDURA双作用反应堆是一种用途广泛、效率高的反应堆，能够控制沉积在直径达300毫米的基板上。它具有两个单独操作的等离子体源，一个位于腔室顶部，一个位于腔室底部。两种等离子体源均可独立调整，以控制工艺室内的工艺参数和沉积。顶部等离子体源为低温氮化硅，由氮化铝（AlN）窗口屏蔽，由2.4 kW射频发电机供电。底层等离子体源是内部冷却、感应耦合的射频电源，温度范围为219-1200 °C。双作用系统允许对沉积过程进行更大程度的控制，使用户能够调整其过程，使之与较大的基板相比具有更大的统一性。两个等离子体源中的每一个都是独立控制的，以定制过程，可以在总腔室压力、等离子体功率、源压力等方面进行调整。反应堆还具有自动化功能，如超过工艺参数时自动关闭，为用户提供了更加安全高效的等离子体工艺。APPLICED MATERIALS ENDURA双作用反应器具有高度可靠的基板和晶圆处理元件,以及先进的机器人运动控制系统,可实现整个处理的完全自动化。该反应器的设计旨在支持三个主要领域的优化--反应性、温度和沉积速率。它效率高，沉积材料使用率低，相对于其他解决方桉降低成本。ENDURA双作用反应堆是一种创新的、最先进的等离子体沉积系统，为半导体工业提供了极好的均匀性、改进的工艺控制和成本节约。它具有优异的性能和可靠的性能，是栅极电介质和金属层沉积等先进应用的绝佳选择。该反应堆非常适合先进的半导体器件制造，为最苛刻的工艺提供最大的吞吐量和可靠性。