二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266968 待售
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ID: 9266968
晶圆大小: 8"
PVD System
Load lock: Narrow body (Automated)
Buffer robot: HP
XFER Robot: VHP
Chamber-A: Pass-tru
Chamber-B: Cool
Chamber-C: PC2
LEYBOLD Turbovac 361C Turbo pump
Chamber-D: TiN
Body: Wide
Magnet: K3/P4 Source
Pedestal: 101
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power missing
Chamber-E and F: Orienter-Degas
Chamber-L: Gamma II TI
Body: Wide
Magnet, P/N: 0010-20328
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power:
Master: MDX-L12M-650
Slave: MDX-L12M-650
Chamber-2: AL
Body
Magnet, P/N: 0010-20328
Pedestal: Clamp
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
Chamber-3: Ti
Body: Wide
Magnet, P/N: G12 0010-20225
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
Chamber-4: TiN
Body: Wide
Magnet: G12
Pedestal: 101
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power:
Master: MDX-L12M
Slave missing.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是用于制造半导体电路板的大型真空处理装置。具体来说，AMAT ENDURA反应堆被用于CVD（化学气相沉积）工艺，这是现代半导体元件生产的关键一步。应用材料ENDURA反应器由四个主要部件组成：真空室、工艺入口和出口、气体输送设备和控制系统。真空室是一种密封容器，设计用于保持室内最大的清洁度和真空水平。工艺入口和出口提供从环境进入腔室的通道，允许气体进入，并在工艺周期结束时清除产品。气体输送单元用于将特定的惰性和反应气体注入反应堆腔室，然后在CVD过程中与底物材料相互作用。最后，控制机允许操作员对腔室的设置、气体输送和工艺参数进行精确监控，以保证产品的一致性和高质量。ENDURA反应堆的特点使其成为制造先进半导体元件的理想选择。它可以达到高达1000 °C的温度，允许反应气体在原子水平上与底物相互作用，形成复杂的结构，如高K电介质和其他复杂材料。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA也针对高通量进行了优化，允许在CVD生产中快速加工晶片/基板。对反应堆环境和工艺参数的精确控制能够获得准确和可重复的结果，而综合安全系统则始终确保操作员的安全。总体而言，AMAT ENDURA Reactor是为制造半导体器件的CVD工艺而设计的先进真空处理工具。其精确的控制和坚固的功能可实现准确和可重复的性能,使其成为高级制造过程中可靠且最佳的选择。
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