二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9312919 待售

ID: 9312919
晶圆大小: 6"
PVD System, 6" Load lock: Narrow body (Automated) Buffer robot: HP XFER Robot: HP Chamber A: PC Chamber B: Cool Chamber E: Heat Chamber F: Orienter-Degas Chamber 2: AL Body: Standard Magnet: Assy 11.3" SRC STD 1 Pedestal: Clamp DC Power: MDX-L12 CTI-CRYOGENICS On-Board Cryo pump, 3-Phase Chamber 3: Hot AL Body: Standard Magnet: Assy 11.3" SRC STD 1 Pedestal: 101 DC Power: CMDX-L12 CTI-CRYOGENICS On-Board Cryo pump Chamber 3: Ti Body: Wide body with shutter Magnet: Assy 11.3" SRC WB 18 Pedestal: Clamp DC Power: MDX-L12M and MDX-L12 CTI-CRYOGENICS On-Board Cryo pump AC Rack Controller DC Power rack CTI-CRYOGENICS 8500 Cryo compressor CTI-CRYOGENICS 9600 Cryo compressor Missing parts: Loadlock cassette indexer assy Video PCB Hard Disk Drive (HDD) 5-Phase driver (3) DC Power supplies RF Power supply for PC chamber NESLAB Chiller.
AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA设备是一种先进的沉积反应器,旨在以快速的速率和精确的厚度生产具有精确层的薄膜。AMAT ENDURA,代表外延、沉积、反应性蚀刻和Advanced,是一个由APPLIED MATERIALS ENDURA TE、Cell和Chamber系统三部分组成的系统。ENDURA Chamber是一种最先进的超精密热/真空处理室,能够高精度地生产高质量的晶圆基板。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA TE包括一个集成的高级气体单元、一个高真空泵模块、一个实时端点控制、一个RF发电机块和一个RF送电机。AMAT ENDURA电池由用于沉积和蚀刻晶片基板上沉积材料层的各种工艺和沉积组件及控制器组成。APPLICED MATERIALS ENDURA CELL包括低质量流动离子源、大功率射频源、阳极、阴极和反应气线等先进气体分配元件,以及脉冲LED、脉冲激光、高压偏置电极。先进的气体工具有助于监测和控制沉积过程,而射频发生器和高压偏置电极控制基板的电偏置。整个ENDURA资产设计为在整个晶片表面上产生具有精确、高精度厚度的均匀沉积层,具有高精度(+/-1A)可重复性和高通量处理速率。整个模型,包括AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Cell,设计为用户友好和自我诊断,确保用户即使在延长运行期间也能获得可靠、高保真的性能。AMAT ENDURA Cell凭借其集成的气体设备、射频源和可变偏置,可以并行处理多片薄膜,从而实现更高的吞吐量过程,降低拥有成本。APPLIED MATERIALS ENDURA TE被设计为高效率,具有低功耗电源和小占地面积,非常适合小型实验室。ENDURA系统是任何需要高精度、可靠沉积工艺的行业的理想选择。它效率高,具有最先进、业界领先的热/真空处理能力、气体系统和射频源,提供卓越的可重复性、快速的速度和精确的厚度。其集成气体系统和可变偏差提供了对沉积过程的完全控制,而其低消耗电源和小占地面积使其成为任何规模实验室的理想选择。为了获得可靠、高保真的性能,AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA单元没有任何性能。
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