二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Etch chambers for Mark II #9262213 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Mark II蚀刻室是一种为化学过程而设计的气体蚀刻反应器。这个反应堆使用了一种叫做化学-气相沉积处理（CVD）的方法，以便在电子器件上形成薄膜。特别适合工业生产，可容纳0.25mm至6英寸的多种晶片。蚀刻室的设计允许高效传递热量和去除副产品。它由一个包含蚀刻室、射频发生器、供气器和真空设备的不锈钢滚筒组成。其中包括一个环境控制系统，该系统维持设备内所需的温度和压力，并提供惰性大气。这台机器用于控制晶圆的温度，供应蚀刻气体，并疏散腔室。蚀刻室用氮冷却，气体加热到125 °C左右，这取决于工艺要求。蚀刻气体在腔内均匀流动，并通过校准的微管结构保持平衡。一个连接到腔室的射频发生器用来创建一个更高能量的电场，激活氢和氧蚀刻气体分子，使分子与晶圆材料反应。射频发电机本身由直流电源供电，可以设置为创建强度和频率不同的交替磁场。这允许精确调整蚀刻速率。它还允许移除蚀刻过程中创建的副产品，使它们在后续操作中不会与晶圆发生反应。腔室壁涂有特殊的介电材料，以确保射频能量不会泄漏出腔室，并干扰其他组件。RV溅射室也可用于在晶片上沉积金属层，以保护晶片在蚀刻过程中。还可以在工具中加入离子源，为晶圆表面提供额外的腐蚀保护。总体而言，Mark II的AMAT蚀刻室适用于各种蚀刻工艺。它是为稳定、易于维护、精确以及温度和压力控制而设计的。它也是高效率的，允许去除蚀刻过程中产生的副产品。