二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK #293608989 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK是一种高性能蚀刻/氧化反应器，能够进行广泛的蚀刻、沉积和氧化过程。高度可配置的设备包括步进电机和高速、高分辨率的多轴扫描仪，使其成为等离子体蚀刻、反应性离子蚀刻（RIE）、溅射、氧化和薄膜沉积等工艺的理想选择。AMAT G5 MESA HPK的设计目的是在晶圆上提供最大的工艺均匀性。该单元的主要部件为腔室、气体处理系统和真空单元。该腔室由不锈钢制成，带有石英视孔，可用于查看加工过程。为确保最大均匀性，腔室配备了多区气体分配机、多点射频发生器和多天线设计，以及微波电源，使每个天线都能独立控制频率。该工具还具有先进的计算机控制资产，能够通过WaferWorks软件控制模型。该软件允许用户轻松调整腔室压力、晶圆温度、射频功率水平和天线参数等参数。此外,软件还监视反应活动和诊断程序,以确保所有进程都能顺利运行。APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK的气体处理设备设计为提供准确和可重复的结果。它能够控制质量流量控制通道和源阀门，溷合各种源的明确定义的气体。该系统允许各种测试气体和蚀刻化学物质，确保用户能够根据具体需要和应用定制其工艺。G5 MESA HPK还具有真空单元，包括离子泵、吸气室、冷冻泵和涡轮泵。这些系统的组合允许高真空水平，确保所有反应活动都发生在超低污染环境中。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK是一种先进的蚀刻/氧化反应器，非常适合各种工艺。从等离子体蚀刻、溅射、氧化和薄膜沉积，到先进的计算机控制和精密的气体处理和真空系统，这台高性能的机器确保用户在其晶片上达到最高水平的均匀性和可重复性。