二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA #9311195 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA（金属蚀刻和选择性沉积原子层）是一种用于半导体制造的等离子体反应器。它使用多种不同的工艺来沉积、图样、蚀刻和钝化材料、特征和基板表面的金属层。AMAT G5 MESA采用三大原则运作。第一个原理是多模操作，允许反应器用于各种晶圆制造过程，如光刻、蚀刻、沉积。第二个原理是多种金属化化学的原理，这使得反应堆能够创造出适合制造需要的高质量金属层。最后，第三个原则是增强材料兼容性，这使得不同的材料可以在反应堆中使用，以满足客户的要求。整体结构方面，APPLIED MATERIALS G5 MESA等离子体反应堆设计有三个腔室，每个腔室都有自己的工艺腔室、真空泵、气体输送系统、气体控制系统。化学传递和反应由工艺室的Shutterless Technology精心策划，该技术采用基于快门的蚀刻和沉积控制。这样可以通过变化的工艺参数（如压力和气流）来精确调整工艺。G5 MESA的工艺室还容纳了反应堆的先进等离子体源，允许该室在低温低压下运行。这使得AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA能够有效沉积和蚀刻不同类型的金属层，而不会损害材料的表面特性。此外，AMAT G5 MESA还有一个集成的数字平板扫描仪，能够准确监测和控制正在处理的层。Advanced Materials APPLIED MATERIALS G5 MESA等离子体反应堆是一种通用工具，能够制造高质量的金属层。其先进的技术和功能使其成为寻求创建强健、精确和高性能组件的制造商的绝佳选择。G5 MESA具有低温操作和增强的材料兼容性,是满足许多制造要求的理想解决方桉。