二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA #9311362 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA是为先进半导体器件制造开发的200毫米高温深硅蚀刻反应器。它在长宽比高达10的特性中提供出色的选择性和蚀刻均匀性，适用于MEMS应用和其他蚀刻工艺，如Norwood和Unibond。AMAT G5 MESA反应堆具有先进的工艺优化和控制算法，在一系列基材材料上提供了优越的蚀刻均匀性。其集成的过程控制监控和故障检测算法在不牺牲吞吐量的情况下调整蚀刻速率。它还具有先进的氧气输送控制，以加快循环时间和提高选择性。APPLICED MATERIALS G5 MESA react creating a highoughoxenated etch environment to improve feature selectivality and formerG5 MESA反应器适用于蚀刻硅基基板，如石英、光学玻璃和蓝宝石，并适合于薄膜、粘合晶片、多芯片模块的蚀刻。它具有高分辨率的图像处理光学系统，允许用户调整大面积或小特征应用的分辨率设置。它还具有一个带有实时传感器组件的气体输送系统，优化了蚀刻性能。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS G5 MESA反应堆提供了提高等离子体稳定性的高温能力，并有助于蚀刻特征轮廓和几何形状的选择性和均匀性。先进的蚀刻工艺控制算法与高温性能相结合，取得了较好的工艺性能。AMAT G5 MESA储层中可用的大型工艺窗口进一步提高了设备的吞吐量。APPLICED MATERIALS G5 MESA反应器设计用于研究、过程控制、故障分析和设备生产中的多用户应用。它具有高度可配置性，并且与现有的光刻系统兼容，允许多个过程模块和系统集成。G5 MESA反应堆拥有一系列先进的工艺优化和控制算法，以及大量的可用选项，可提供优异的器件产量和改进的工艺性能。