二手 AMAT / APPLIED MATERIALS H20 VDSII #293647380 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS H20 VDSII是一种用于半导体加工的高性能、具有成本效益的化学气相沉积（CVD）设备。该反应器设计用于薄膜在低温和最小污染和气体载荷下的沉积。该系统的组件包括一个向工艺室供电的电源、一个真空泵、一个反应物进料单元和一个工艺废气。电源是一个DC/AC转换器,能够在500伏时提供高达30 amps的电流。真空泵是一种涡轮分子泵，分别提供2.5e-7 torr和5e-7 torr的基础和源真空压力。反应物进料机有精密的流量控制阀和泵，过程排气是一种多喷嘴扩散工具，从反应堆中去除反应产物和颗粒。AMAT H 20 VDSII能够执行一系列的CVD过程，包括直接和选择性CVD、湿氧化和氮化物钝化。沉积温度范围从室温延伸至850 °C，沉积速率为6-8microns/minute，视工艺条件而定。资产最多可容纳16加斯线，允许处理各种材料。该反应堆旨在最大限度地提高工艺的可重复性和尽量减少维护需求。它有一个自动晶圆翻新模型，其中晶圆从负载站转移到翻新站，以便从以前的工艺中清除任何颗粒污染。该设备还具有一些安全功能，如地面故障传感器，以保护人员和资产。APPLICED MATERIALS H20 VDSII优越的设计确保了各种基材的最大加工效率和均匀性。其能效、气体负荷最小、工艺窗口宽，是半导体薄膜沉积的理想系统。这个具有成本效益的单元适用于研发和商业生产应用。