二手 AMAT / APPLIED MATERIALS HTHU #185712 待售

ID: 185712
晶圆大小: 8"
PVD Chamber, 8" HTHU PVD Chamber Hot Aluminum HT MCA+ESC.
AMAT/APPLIED MATERIALS HTHU(高温/高通量超高真空反应堆)是为高级研究应用开发的超高真空沉积设备。它使用先进的超高真空沉积系统,允许在超过1450 °C的温度下将薄层材料沉积到基板上。这使得该系统非常适合生长的III-V化合物半导体、石墨烯和氮化硼等应用。AMAT HTHU由反应器室和蒸发源两个主要组成部分组成.反应堆室由不锈钢制成,设计为保持1E-6 torr的真空(低于正常大气压)。反应堆室内是蒸发源,用于将材料样品溅射或蒸发到基板上。蒸发源中还包括离子枪,用于蚀刻、清洗和修饰基板表面的材料。蒸发源利用RF(射频)电源进行材料蒸发,可以在电子束和CVD(化学气相沉积)之间切换。这允许在沉积过程中控制基板温度、通量和压力,允许控制材料厚度和形态。此外,广泛的参数控制可以优化沉积过程,提高扩散速率,提高膜的均匀性,提高膜的附着力。为了确保沉积过程中的精确度和准确性,使用单元MFC(质量流控制器)来调节压力,允许反应堆内溷合气体的良好控制流动。这种温度和压力控制的结合,以及高温能力,使得极可靠的结果。此外,应用材料HTHU配备了一个负载锁定设施,以确保在装入反应堆室之前有效地准备基板。这一特性还允许基板快速循环,提高整体机器吞吐量。总之,HTHU高温/高通量超高真空反应器是研究应用的先进沉积工具。它具有先进的射频蒸发、离子蚀刻,以及高度精确的温度、压力和通量控制能力,允许完全控制沉积过程。其载荷锁定特性使基板能够高效循环,使其高效可靠。
还没有评论