二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MESA G5 #9311199 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS MESA G5等离子体蚀刻反应器是一种高度先进的设备，设计用于在各种制造方桉中精确管理使用爆炸产生的等离子体的过程。在半导体器件制造中，蚀刻是一个关键性的过程，涉及利用等离子体的能量在基板中创造所需的形状和特征。AMAT MESA G5利用感应耦合蚀刻技术，允许有效的能量从等离子体源转移到基材上。加上先进的诊断和对参数的严格控制，反应堆达到了极高的精度水平。喷嘴中的腔室压力是通过压力控制回路控制的，压力控制回路在蚀刻过程开始之前启动真空序列以减压设备。压力控制，加上精确的功率水平和温度调节，使得蚀刻精度非常高，降到了纳米级。APPLICED MATERIALS MESA G5还具有专用的成像技术，允许持续监测和控制蚀刻过程。这确保了一致的结果,并最大程度地减少了产量差异,使其成为一个可靠的应用系统,必须以完全准确和可靠的方式执行。反应堆配有一个先进的反馈控制单元，通过将预期结果与实际结果进行比较，帮助优化蚀刻过程。这使操作员能够迅速进行重大调整，以达到预期的效果。机器还利用压力和温度传感器对过程进行连续监控和调整；例如,在高材料负载期间,传感器将自动调整功率级别,以防止过度蚀刻。最后，MESA G5附带多种蚀刻配方、柔性腔室清洗、暴露于多种气体等选项，仅举几例。此功能集使其成为任何制造工厂中具有的高度可靠和通用的工具。AMAT/APPLIED MATERIALS MESA G5由于技术先进，对于要求对参数进行高精度、严密控制的蚀刻工艺来说是绝佳选择。