二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MOCVD HP+ chamber #9046115 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS MOCVD HP+室是一种金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器，旨在使InP、GaAs、GaN等高性能半导体材料生长。HP+腔室的独特设计为制造商提供了对工艺的高度控制,从而能够精确控制材料的质量和增长率。HP+腔室设计有两个独立操作的反射器电子束源，一个顶部和底部。这些源优化了沉积过程的均匀性，因为每个源都可以单独调整，以补偿基质本身引起的均匀性的任何变化。此外,还可以拆卸反射器,以便快速清洗和维护。源组件还包括一个独特的独立射频偏置源,可以精确控制材料的组成和厚度。HP+室的反应室设计为最大均匀性。腔室呈椭圆形，允许反应性物种对称均匀分布。此外，该腔室被封闭在高温夹套中，将其与环境污染物隔离开来，从而降低沉积的均匀性。该反应室增加了几个附加特性，显着提高了HP+反应室的性能。在腔室顶部安装了一个超快速机械关闭（UFMO）快门,可以在几分钟而不是几小时内停止该过程。外部沉积监测系统提供对沉积过程的实时监测，能够在基板受到影响之前主动采取快速纠正行动。包括自动气流控制系统和温度控制系统，以精确控制沉积条件。HP+腔室还具有多项高级安全功能。两阶段锁定钥匙可确保万一出现紧急情况时的最大安全性。在第一阶段，关闭快门以阻止气体流入腔室。第二阶段，切断进气管线，确保完全断气。总体而言，AMAT MOCVD HP+腔室为高性能半导体材料的制造提供了强大可靠的解决方桉。其独特的设计允许精确控制沉积过程，从而产生更高质量的材料，提高产量。此外，其先进的安全特性保证了过程的安全性和机器的操作者。