二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MOCVD HP Standard #9007740 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS MOCVD HP Standard是一种先进的金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器，设计用于III-V复合半导体材料的外延生长。它被广泛用于在底物上构建半导体化合物薄层。反应堆由一个加热室、两个石英管和一组沉积源组成。反应堆室装有超高真空模式，意味着可以创造更好的大气环境以提高增长率。这个腔室可以通过强大的两区石英管炉加热到1000 °C，允许更厚的薄膜和精确调节生长温度。此外，高温耐热壁和线性传递插件将腔室的热消耗降至最低。另一方面，石英管用于分离反应堆的主动区和被动区。此外，它们允许反应物在整个腔室体积中精确分布，保持均匀增长。这组源还包括一个用于颗粒的注入源和一个用于单一源材料的电子束源。AMAT MOCVD HP Standard还具有较大的生长区域，腔壁不断监控，以防止铁丝网蚀刻。这是通过有效的压力控制系统和各种保护材料来完成的。为了进一步保证良好的效果，在对样品中掺杂浓度进行透彻分析后，对原料进行活化。总之，应用材料MOCVD HP Standard是一种先进的反应器，适用于III-V复合半导体材料的高效外延生长。它包括一个超高真空室、强大的石英管和一组沉积源，以及各种保护材料和系统，以最大限度地提高样品质量。