二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MST #9227637 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS MST是为半导体器件制造而设计的反应堆。它是化学气相沉积（CVD）反应器的一种先进形式，用于将金属、氧化物、氮化物和其他金属有机物质层沉积在硅、碳化硅、砷化的基板和金刚石等基板上。在AMAT MST反应堆中，要沉积的材料来自与反应室相邻的腔室（这也是用来保持反应室清洁的）。源材料最初被加热，然后流入反应室，在那里它暴露于感应耦合射频（RF）源产生的等离子体（一种高度通电的气体）中。等离子体分解原料分子，然后以薄、均匀和保形的膜沉积到基材表面。底物材料被电子回旋共振（ECR）源加热，以协助沉积过程。与传统的CVD系统相比，APPLICED MATERIALS MST反应堆提供了更高的工艺精度和更低的热预算，提供了明显更好的设备性能。其CVD前体和加工参数可以在每个沉积步骤中精确控制，从而可以精确控制材料组成、特征大小、层厚度以及沉积材料和现有材料之间的界面。CVD层的可重复性和均匀性提供了高度的工艺收率和可靠的设备性能。等离子体提供了一个低压工作环境，独立于压敏材料特性，是一些材料如氮化物和氧化物的理想选择。MST反应堆的部件设计为可靠、长期运行。反应室本身由304个不锈钢构成，而墙壁和屏蔽则由铝和钼合金制成。用于控制射频源和底物温度的加热器和电动机坚固可靠，密封容器有助于防止分子种类从反应堆内排出气体。反应室的自动化操作使得无人处理能够在工业环境中进行。综上所述，AMAT/APPLIED MATERIALS MST反应器用于将保形薄膜层沉积到基板上。它对材料组成、层厚度、特征尺寸和均匀性的精确控制,使设备性能可靠,工艺产量高。AMAT MST系统采用低压等离子体环境，是氧化物和氮化物等某些材料的理想选择。其强大的部件和自动化操作使其适合在工业环境中长期、大量使用。