二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ #293749249 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+
ID: 293749249
晶圆大小: 8"
System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS MxP+是用于高级介电和金属膜沉积的下一代等离子体增强CVD (PECVD)单晶片反应器。该设备旨在提供低成本的集群工具制造能力,以实现严格的过程控制和优化的设备参数,从而使薄膜质量更好。AMAT MxP+反应堆利用电子回旋共振(ECR)等离子体源产生高密度护套电势,允许较大的电离物种逃离等离子体进入低压沉积室。这种护套电势也阻止电子喷出出腔室,产生更高的离子轰击压力。此外,其独特的流体注入技术能够精确控制晶片上离子的密度,以获得最佳的沉积厚度、附着力和平坦度。该系统还具有低拥有成本和密封真空室的特点,以尽量减少污染和保持一致的过程。APPLICED MATERIALS MxP+反应器可用于沉积ALD、high-K、low-k材料等高品质介电膜,均匀性、阶梯覆盖率和出色的热/机械性能分布。此外,反应堆能够沉积铝、铜和钨等金属薄膜,从而更好地防止电迁移和提高电导率。此外,MxP+反应堆非常适合用于半导体MEMS和光电应用。除了增强的PECVD功能外,该单元还配备了几个高级传感器,用于完整的过程监控。这包括测量离子能量、离子能量分布和等离子体密度,以便更精确地调整工艺参数和更有效地监测沉积工艺。该机还可以与外部过程控制软件和自动化前馈系统集成,以增强反馈控制。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS MxP+是先进的PECVD单片反应器。为提高膜沉积质量提供了改进的电离物质向基质的迁移和等离子体参数的精确控制。它的集成传感器还允许实时监测和反馈控制,以及一个密封的真空室,以防止污染物。这使得它成为半导体MEMS和光电应用中先进的介电和金属膜沉积的理想工具。
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