二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / NESLAB TiN Chamber for Endura #293660464 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/NESLAB TiN Endura室是一个用途广泛、最先进的反应堆，用于在原子水平上制造材料。该腔室具有较高的腔室均匀性，能够使用适当的原子层沉积（ALD）输送均匀的氮化钛（TiN）膜，这是一种应用于各种底物的硬膜。为与AMAT Endura旗舰系统配合使用而设计的TiN Chamber包括易于使用的功能,可最大限度地缩短曝光时间并最大限度地提高生产效率。TiN Chamber具有高科技软件和技术,可在ALD涂层中对各种形状和尺寸的基板进行精确控制。这项卓越的技术还包括优化涂层材料均匀性和目标性能的程序。设计的TiN腔室还具有卓越的均匀性、调温性能和出色的薄膜质量。此外，这种TiN腔室在沉积过程中提供了出色的晶圆平坦度，同时也在过程中提供了出色的传热。TiN腔室可提供高达400 nm/小时的高沉积运行,而不会降低均匀性。NESLAB TiN Chamber for the Endura is the perfect solution for industry and research factions that required advanced technology solutions for coating substates with milms of TiN.该腔室是微电子和光电应用的理想选择，如氧化物基板、氧化物半导体、光学器件等的研究。Endura设备的TiN Chamber也设计用于用元素特定前体制成的薄膜。这有助于确保统一的结果和统一的性能。再者，TiN腔室包括一个集成的负载锁，允许同时处理多个晶片，从而使吞吐量最大化。AMAT TiN Chamber for Endura还提供了许多高级功能,例如可变气体监测系统、用于安全基板处理的气体清除单元、可持久构建的硬件组件以及用于在整个腔室中重新分配的高效热力机。综上所述，用于Endura的APPLICED MATERIALS TiN Chamber提供了可靠和先进的原子层沉积（ALD），在各种底物上提供了均匀的氮化钛薄膜。此腔室的设计有助于最大限度地提高吞吐量,缩短曝光时间,并确保其集成的负载锁定和其他功能的一致性。