二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Oxide chamber for MxP+ #293656757 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS氧化物室MxP+是一种化学气相沉积（CVD）反应器，用于将二氧化硅薄膜沉积到半导体组分上。氧化室有一个由盘绕的Pt/Ti灯丝包围的温度控制石英管，允许精确和均匀的温度控制，而自动产生的等离子体则是由13.56MHz高频电源形成的。氧化室内部引入硅烷（SiH4）、氢气（H2）、氧气（O2）等前体气体，并通过加热的石英管。随着气体进一步进入管中，它们蒸发，然后反应形成二氧化硅。气态反应被等离子体部分催化。反应过程将气体分子分解成自由基，碰撞时通过高温氧化、还原和均质成核过程迅速转化为二氧化硅。氧化物室的薄膜生长过程受到高度调节，各种工艺周期的参数都是可调的。这些包括前体气体注入速率、等离子密度、腔室压力和冷却速率。控制这些参数允许氧化膜中的不同性质，如密度、均匀性、粗糙度和其他特征。氧化室被设计为生产高质量、低应力的氧化层，并被用于许多行业，包括微电子、汽车、航空航天。这类腔室已被证明可用于制造比其他类型的沉积过程具有较高的耐腐蚀性、较高的温度稳定性和较低的介电常数的组件。AMAT Oxide chamber for MxP+是一种用途广泛的工具，用于许多应用。该反应器具有可靠的性能、可控的工艺参数和稳定的氧化膜沉积能力，是许多类型二氧化硅膜沉积需要的理想选择。