二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD #9161551 待售

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ID: 9161551
优质的: 1995
System Singlewafer multichamber Both chemical vapor deposition (CVD) and etching Handle 8” Silicon wafer Power rack Original PC (4) chambers: (2) For CVD (C2F6, SiO2, NF3, He, and TEOS) (2) For etching (CF4, Ar, SiO2, O2) 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD反应堆是一种直观且用途广泛的致密化反应堆,专为多种应用而设计。P5000 Mark II是一种化学气相沉积(CVD)系统,配有多个工艺室进行工艺优化。AMAT P5000 Mark II CVD具有精密设计的大量功能,可实现高效、精确的沉积。其多室设计可用于屏障膜、硬质涂层、扩散控制介电膜等应用的工艺参数优化。多腔室设计允许每个腔室有不同的温度状态,从而能够同时处理多个应用和沉积。此外,应用材料P5000 MARK-II CVD改进了工艺控制,因为任何工艺变化都可以根据其要沉积/制造的材料特性进行调整。MARK-II CVD除了性能增强外,还P5000确保安全。它配有高分辨率温度传感器和加热距离控制,以维持工艺室大气,保护操作员安全,同时提供最佳温度控制。P5000 Mark II CVD中的其他功能还包括排气连接和闭环系统,以监测和帮助清除过程中的有机化合物。这有助于保证有机废水不会逃逸到环境中。此外,APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD还具有可调节的加热元件,以实现最佳性能和工艺控制。其构造特点是外壳压板,提供了整个工艺室的均匀温度分布,从而提高了性能,延长了生产运行时间。综上所述,AMAT P5000 MARK-II CVD反应器是一个直观而有效的系统,设计用于细腻的沉积和过程,如屏障膜、硬质涂层和介电膜。它配备了多应用处理的各种工艺室等丰富的特点和优化性能的可调加热元件。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD也通过使用温度传感器和闭环系统来提供安全,以减少有机废水进入环境。采用外壳压板的结构确保了可靠的工艺效果和高效的生产运行,使其成为CVD应用的最终选择。
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