二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9051380 待售
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ID: 9051380
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
CVD Systems, 8"
(3) Chambers
Wafer type: Notch
Vacuum processing type
MFC:
Gas #1: SIH4 200 sccm
Gas #2: N2 10 slm
Gas #3: NH3 100 sccm
Gas #4: NF3 1 slm
Gas #5: N2O 3 slm
Gas #6: CHF4 3 slm
Gauges:
(2) MKS 122BA Baratron, 10 torr
MKS 628A Baratron, 10 torr
Includes:
AD TEC Generator AX-1000AM2
AMAT Matcher
AC Rack
Gas box
(2) Chillers
Heat exchanger
(3) Dry pumps
Mainframe
PC Rack
GEN Rack
(2) Regulator boxes
(2) FAPC Racks
(9) Accessory boxes
(2) Power boxes
(3) RF Power supplies
AMAT-0 H / E
(2) Panels
(3) Columns
Abatement system
(2) Column boxes
(3) Abatement filter
Transformer
(3) Gas detectors
Currently stored in cleanroom
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J反应堆是一种强健、高性能的PECVD设备，用于电介质、半导体和金属薄膜的沉积。该反应堆配有射频（RF）电源，能够以降低的性能沉积薄膜，从而大幅降低材料成本。它专为半导体器件制造而设计，非常适合用于研究实验室和工业工厂。AMAT P5000 MarkII-J利用单晶片设计,提供可靠且均匀的薄膜均匀性,并在每个晶片上具有极好的可重复性。该设计允许完全统一,比其他系统提供更好的性能。该系统具有双冷壁，能够在晶片上沉积介电材料和半导体材料时，产生具有优异堆积密度的高质量低应力薄膜。它还能够通过金属有机化学气相沉积（MOCVD）沉积金属氧化物。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J配备了高级退火功能以确保过程控制。该装置采用主动温度监测和嵌入式控制器提供均匀的温度控制，以提高温度精度。它还配置了一个集成的远程室,以提供额外的监视和诊断功能。该设计还提供了卓越的效率，因为它最大限度地提高膜沉积速率高达20nm/min，并且在晶片之间具有一致的均匀性。P5000 Mark II-J具有坚固的工艺室和易于维护的模块化设计。这允许快速修复时间和最小的停机时间。该机还配有一系列配件，包括自动扫描仪、射频源、超灵敏光学传感器和辅助供气。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J结合了先进的监控和诊断功能、坚固的设计和高性能,成为一种强大可靠的反应堆,可用于半导体器件、介电膜和金属氧化物沉积等应用。
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