二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+ #9082547 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+是一种高性能、多室等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应堆设备。它是AMAT的下一代P5000系列先进等离子体系统，旨在将包括氧化物、氮化物和碳化硅（SiC）在内的高质量薄膜沉积到直径达200毫米的半导体晶片。AMAT P5000 Mark II MxP+是一个全自动、多腔系统，利用先进的等离子体技术和先进的工艺控制能力提供一致的薄膜沉积，即使在最薄的半导体晶片上也是如此。该单元由多个独特的组件组成，这些组件协同工作，为用户提供最大的灵活性和性能。机器的核心是集成的多室等离子体源，它能够根据基板要求在一定频率和功率水平范围内产生等离子体。这一组件允许更高的沉积速率和均匀性，使得该工具甚至适用于最薄的基板。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II MXP+配备高压输送资产，用于卓越的工艺控制，确保整个晶圆的均匀性。它的集成闭环模型还可以感应过程参数并进行调整，以考虑沉积过程中可能发生的不一致，例如温度变化。随附的自动化设备提供了统一的用户界面，简化了操作参数配置和过程控制。该系统包括高级软件工具和用户友好的配方，允许用户根据自己的确切规格自定义其流程参数和设置。此外，该单元还包括一系列附加选项，如先进的气体输送机（GDS）和可喷洒气体供应，可提供进一步的定制和最大的多功能性。这些附加组件使用户能够轻松配置工具以满足其特定的工艺需求,从而优化沉积结果。P 5000 MARK II MXP+设计为高效,为所有沉积过程提供高精度和可重复性。对于寻求高性能、经济高效、多室PECVD解决方桉的用户来说,此资产是一个绝佳的选择,它的许多高级功能使其成为寻求尽可能高质量结果的用户的理想选择。