二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #156342 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应堆是一种用于制造半导体器件的高性能沉积设备。它是一个热壁、单晶片、金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器。该系统旨在提供卓越的过程灵活性和质量,同时仍能提供良好的一致性和结果可重复性。AMAT P5000 Mark II反应器是金属氧化物半导体（MOS）场效应晶体管（MOSFET）和相关复合半导体器件等半导体器件制造工艺的理想选择。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II单元具有先进的反应技术和多级自动化控制与管理。随着机器，晶片可以在单晶片模式或批量明智的处理。该工具提供了良好的过程可重复性、稳定性和统一性。该资产还可用于在同一进程室中单个运行中制造多个设备层。P 5000 MARK II反应堆能够处理从450°C （842°F）到950°C （1742°F）的温度。它的最大过程压力范围高达5 Torr（0.66大气压）。气体流速和单晶圆均匀性在整个沉积过程中均可调节。该模型可配备多达十六个气体输送源，可以独立编程，以实现最大程度的工艺灵活性。该设备还为清洁过程提供了较低的颗粒速率。AMAT P 5000 MARK II反应堆具有四臂机器人系统和具有碳化硅（SiC）喷嘴的高效冷却单元。此外,该机器还提供超低的颗粒速率、卓越的工艺可重复性和延长的部件寿命,特别是在复合半导体器件的增长方面。它可以与多种材料一起使用，包括砷化铵（GaAs）、磷化铵（InP）、砷化铝​​合铝（AlGaAs）和其他III-V化合物。该工具还具有先进的自动加载程序,具有晶片到晶片的过程可重复性,可确保不同晶片之间的均匀性,且操作人员的干预最少甚至没有干预。自动装载机还包括一项资产，用于在进入腔室前干燥湿加工过的晶片。P5000 Mark II反应堆还带有配方和故障可追踪性模型，可以实现更好的过程控制和精细的数据分析。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II反应器使半导体器件制造商能够快速准确地执行广泛的工艺和制造任务,具有比以前更高的工艺重复性和均匀性。设备的特性和功能使其成为任何半导体应用的宝贵工具。