二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293596177 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 293596177
晶圆大小: 5"
Oxide etcher, parts machine, 5" (2) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应堆是一个生产级化学气相沉积(CVD)平台,在一个腔室中有多个来源和过程。AMAT P5000 Mark II反应堆具有较高的沉积速率、可控的均匀性和可容纳各种工业相关材料的平滑工艺坡道。该设备可以处理广泛的材料系统,并被证明能够产生光滑和均匀的层,即使在纳米尺度。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II系统设计用于工艺工程和高级应用.其旗舰特色包括一个大的4英寸方形腔室、中频ECR等离子体、介电屏障放电等离子体,以及一个高容量的气体面板全部容纳在一个单元中,允许优越的均匀性和一致性。该机还提供快速的工艺斜坡上升、改进的污染控制以及生产高质量薄膜时的效率,包括多层导电和绝缘薄膜。该模型提供了卓越的均匀性、快速的工艺提升和卓越的污染控制,实现了复杂的沉积步骤和改进的薄膜质量。AMAT P 5000 MARK II工具上有多种工艺,如化学气相沉积、原子层沉积等。该资产还结合了集成气体输送模式,具有优越的净化管理、双源控制和序列控制。设备配备了集成的兆赫兹速率接口和数字象限显示屏,有助于确保过程控制,有助于建立过程窗口和级别。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II反应堆是研发的理想工具,提供了生产先进复杂薄膜成本效益所需的精确度和敏捷性。它在大面积上提供高吞吐量和无与伦比的均匀性,使用户能够生产对均匀性、厚度和结构有无限控制的多层薄膜。该系统满足了广泛的纳米加工和材料创新的要求,使研究人员能够开发出半导体、硬盘和光学存储设备的新应用。
还没有评论