二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293620069 待售

AMAT（应用材料）AMAT/应用材料P5000 Mark II是用于薄膜沉积的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工具。Mark II是一个电容耦合反应器，有两个独立的射频源，一个级冷却设备，两个负载锁和两个独立的真空室。这两个腔室可以串联使用，也可以并联使用，允许用不同的配方处理广泛的反应性气体。载荷锁包含石英针式样品支架，能够在不破坏真空的情况下快速装卸晶片。AMAT P5000 Mark II的主室存在于TITAN™反应堆腔内。该腔由不锈钢制成，并填充有感应耦合等离子体（ICP）工艺源，从而能够控制等离子体源参数。ICP源在13.56MHz和27.12MHz之间具有三个可编程频率，从而可以精确控制等离子体放电特性。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II还具有用于下腔的冷却系统,可用于敏感过程的温度控制。Mark II为低（2-5mTorr）至高真空（10-6-10-7 Torr）工艺提供了处理能力。它为每个腔室提供挤压阀，并可配备气体转运器，用于气体预处理和可重复气体组成率。该单元还支持各种气体，包括O2、H2、Ar、He、N2、NF3、CF4和SiH4。气体转运器提供入口过滤器，当选择某些组件时提供出口过滤器，以确保反应物气体的纯度。该机具有多种工艺控制参数。这包括压力、温度和腔室偏置,以及两个独立的射频电源和一个可选的匹配网络。其参数控制提供直流偏差和扫描功能，允许用户微调沉积参数。P5000 Mark II还具有通信接口,可访问和修改数据记录和其他控制参数以优化流程。Mark II还具有一个形状独特的可视化窗口,允许直接查看沉积和蚀刻过程的图像。这样可以更好地了解对样本执行的过程。此外，Mark II还包括EOL保护、设备匹配、无氧等离子体和能够维持晶圆温度的基板冷却技术。总体而言,P 5000 MARK II为各种沉积和蚀刻工艺提供了高效、可靠且经济实惠的PECVD解决方桉。它的多个工艺室和配套配件，加上广泛的工艺控制参数，使得应用材料P5000 Mark II成为研究和工业应用的理想解决方桉。