二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293762173 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor是设计用于先进半导体制造设施的高端工具。AMAT P5000 Mark II主要用于执行外延生长过程,例如在单晶基板上形成绝缘子硅（SOI）层,是一种出色的工具,用于进行研究、开发和生产应用。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II是一种超高真空（UHV）反应器，运行时基压为10-11 Torr。它能够达到5000°C的基板温度，最大加热速率为15°C/秒。反应堆包括石墨3区炉设计，有效区长9.5英寸，25区几何形状。它拥有独特的计算机控制的液压径向升降设备，可以从计算机用户界面进行控制。AMAT P 5000 MARK II还包括先进的多中心外延技术，在包括立方、六边形和三角形结构在内的各种基板上提供薄膜厚度的均匀性。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II还为沉积和生长提供了多种材料选择，包括石墨烯和其他2D材料以及3D材料，以及包括Al、Si、Ge等在内的一系列前体化学。除多中心技术外，P5000 Mark II还提供主动气体输送系统，对反应物进行精确控制，确保满足材料的生长速度和化学计量。由闭环反馈机操作的高级级控制单元利用轴电机控制始终保持晶圆、淋浴头和基板之间的恒定关系,从而确保薄膜厚度一致和沉积均匀。P 5000 MARK II还包括一个流程监控工具，提供对增长参数的恒定反馈，提供对流程的全实时跟踪和控制。最后,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II提供了真空断裂资产,允许气体进入加工室而不会产生压力波动的风险,从而在加工过程中释放操作员以完成其他任务。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor提供了无与伦比的特性和功能，在石墨烯和3D材料等多种材料中提供了过程稳定性和一致性，使其成为先进半导体制造设施的绝佳选择。