二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9011652 待售
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ID: 9011652
晶圆大小: 6"
CVD System, 6"
(2) Standard chambers
UNIVERSAL CVD Chamber
Nitride / TEOS CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一种通用的单晶片湿批次反应器,非常适合工业和研究用途。该加工室采用硅晶片基板建造,但与其他各种常见材料兼容,能够提供高达1000 °C (1830 °F)的温度和高达30个大气层的压力。该设备是围绕统一和自动化设计的,同时保持了业界前所未有的安全可靠的平台。AMAT P5000 Mark II可以有效处理等离子体增强化学气相沉积(PECVD)过程,包括选择性区域蚀刻、掺杂过程和金属沉积。通过结合快速而有力的现场清洗过程、自动化的可编程冷却以及精确的气体和排气控制,这座反应堆可以帮助研究人员和工程师获得最准确和必要的沉积剖面。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II作为一种湿式批量单晶片系统,以低热预算运行,具有自动化、可重复的工艺。该单元的疏散和加热是快速和精确的与加热导轨元件和通量均匀性内/跨晶圆表面。总机还设计了快速排污,无需额外的干气去除。通用安全是P5000 Mark II设计的最前沿。该工具完全封装在不锈钢外壳中,配有反应性回填传感器和安全的盖子执行器,为用户提供了增强的安全性和降低噪音组件带来的额外好处。该反应堆还设有一个获得专利的SafetyX™双工艺室,在一个不受潜在交叉污染的孤立环境中提供可移动的弹药筒盖和改进的温度和成分传感器。应用材料P5000 Mark II是一种极具效率和成本效益的方法来进行要求苛刻的沉积过程与总精度。完全自动化和可重复的过程、安全的安全功能以及高效的散热设计,使资产能够快速、无故障地提供出色的结果。与其他工艺和设备相比,P 5000 MARK II是实现详细晶圆应用的最可靠和最成功的工具之一。
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