二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9097804 待售
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ID: 9097804
PECVD System
Process: PO Nitride
(2) DCVD-LH Lamp heated chambers
8-Slot wafer storage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一种半导体生产反应堆,用于制造先进的微电子元件。这种设备能够通过原子级沉积工艺在半导体晶片上沉积超薄氧化膜。该技术可用于晶体管、催化剂、显示元件等半导体元件的批量生产。AMAT P5000 Mark II是一种高通量的真空沉积系统。它具有6英寸晶圆容量的负载锁室,每小时最多可处理100个晶圆。该装置采用电子束蒸发技术,以确保所有晶片表面积上的氧化物沉积均匀性。这种高精度工艺具有生产粗糙度低、透厚均匀性优良的薄膜的优点。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II使用的是一个氙离子源离子将膜溅射到晶片上。这种溅射过程与电子束蒸发相结合,使薄膜在从室温到1000 °C的广泛温度范围内均匀沉积。这种高温容量可以快速高效地沉积氮化物、氧化物、硅化物和复合膜。该工艺还产生了纯度高、缺陷低的薄膜,导致可用半导体零件的收率更高。P 5000 MARK II的设计还确保湿膜和干膜为下一个加工阶段做好准备,有助于提高整体生产周期时间。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II配备精密石英监控器和控制器。这有助于通过控制离子束的能量、束功率、入射角和其他过程参数来确保沉积过程的质量。该机还配备了先进的图形用户界面(GUI),便于操作和控制。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是生产半导体和其他先进微电子元件的高效通用工具。该反应堆在所有晶片上的沉积具有极好的均匀性,能够对各种材料进行快速和均匀的处理。P5000 Mark II先进的控制工具和用户友好的GUI为用户提供了可靠高效的处理解决方桉,优化了所有半导体器件的产量和质量。
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