二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9114965 待售

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ID: 9114965
晶圆大小: 8"
CVD Nitride dielectric etcher, 8" 3-Chamber (2) 5000 CVD chamber with CVD delta teos gas box, Gold precision 5000 lamp (1) 5000/5200 CVD chamber with 5000 CVD lamp ENI OEM-12B3 RF Generator ENI OEM-12B RF Generator (3) RFPP LF-5 RF Generator (3) Astech ATL-100RA Matching network Heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是为集成电路的外延沉积、扩散和侧壁处理而设计的最先进的反应器。它是当今复杂集成电路大批量制造的理想选择。它可以与多种来源类型一起运作,包括分子束线源,具有广泛的气体和其他输入材料;可以精确控制生成的表层的结构和组成。AMAT P5000 Mark II的腔室设计为允许精确的温度控制;可变范围为100-1000 °C,腔室可让用户精确控制过程的热特性。它还具有高容量涡轮泵,以确保良好的气体控制和较低的底压。这样可以精确控制操作过程中实现的质量通量速率,并提高所有过程的生产率。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II通过标准VME接口利用了先进的计算机控制能力。这种复杂的计算机控制器可以方便地复制过程条件和精确地处理所采用的时间和顺序。该系统还配备了数字高温计和热电偶反馈装置,可以精确控制源材料的蒸发速率。P 5000 MARK II具有广泛的安全特性,包括耐腐蚀的不锈钢腔室、低气体泄漏率以防止火灾和爆炸,以及增强的PECVD(等离子体增强化学气相沉积)铃,用于改进颗粒密封。此外,P5000 Mark II的APPLIED MATERIALS包括一个电离器以尽量减少微粒污染,一个用于最佳工艺控制的Hermetically密封真空系统,以及用于增加人员和设备保护的自动减压阀。P5000 Mark II是大批量生产先进、专业集成电路结构的理想工具。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II具有广泛的特性和高性能,对于那些在集成电路制造方面要求获得最佳效果的用户来说,它是一个极好的选择。
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