二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9153739 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一种在半导体工业中广泛使用的高性能化学气相沉积（CVD）反应器。它是一个等离子体增强的CVD腔室，为成长中的先进半导体材料提供了高品质、高性能的环境。该系统由主腔室、基板卡盘、淋浴头组件和等离子体源组成。P5000主室采用不锈钢真空室、隔热衬里和特殊的耐蚀刻顶层涂层构成。其铝基板卡盘提供精确的温度控制和均匀的加热，以保证高质量的薄膜沉积。腔室配有主动冷却的圆顶百叶窗组件，可提高性能、温度均匀性和均匀的基板温度。喷头组件由气体喷射器组成，装有各种石英喷头插件以及盒式口罩和金属网眼。这样可以精确控制被沉积薄膜的生长速度和组成。淋浴头组件也兼作等离子体处理晶片的敏感剂。P5000的等离子体源是13.56 MHz的感应耦合射频发生器。它向腔室提供射频功率，使半导体材料通电和电离。射频发生器也可动态调谐，允许精确控制沉积、氧化和蚀刻过程。AMAT P5000 Mark II是一种先进的、最先进的CVD反应器，结合了对薄膜沉积的精确控制、均匀的基板加热和冷却以及动态等离子体源调谐，提供卓越的可靠性、高通量和优越的薄膜质量。它是半导体工业的宝贵工具，为研发先进材料提供了一致可靠的平台。