二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9175069 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9175069
CVD System
(1) Standard CVD chamber
(1) Universal CVD chamber
Can be used for nitride or TEOS CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应器是一种用于高性能薄膜生长的先进沉积工具。反应堆配有精密脉冲直流功率单元、先进的频率发生器和温度控制器,提供以纳秒为单位测量的优越过程控制。AMAT P5000 Mark II也有多区热控制,允许反应堆不同部位的温度不同。这确保了均匀的沉积速率和均匀的晶体学参数,即使在处理具有不同性质的材料时也是如此。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II具有计算机控制的过程界面,使用户能够编程或自动执行正确的沉积过程。它采用了最新的节能技术,如动态气流管理,可以定制以优化每个沉积过程。这使得它具有高度可定制性,使用户能够为任何特定应用开发量身定制的影片。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II具有超高真空系统,具有钛吸尘器和钛阴极电子轰炸源。这确保了超高真空环境和最小的污染,导致优越的薄膜质量。系统具有5"、6"和8"磁感器,并带有可选的负载锁。它还有一个气体入口阀,用于将前体引入腔室,以及质量流量控制器,可以对气体流量进行精确控制。AMAT P 5000 MARK II还配备了RS232-based的个人电脑界面,令人难以置信的用户友好。反应堆还能够进行远程控制和监测,使用户能够通过互联网连接从任何地方进入仪器。这些功能使其非常适合研究实验室和制造环境。综上所述,P5000 Mark II是一种强大的沉积工具,能够生产具有卓越工艺控制、先进节能技术、超高真空系统和用户友好界面的高性能薄膜,使仪器可以从任何地点进入。它是研究实验室和制造环境中工作人员的重要工具。
还没有评论