二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9200059 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS P5000 Mark III是一种独特的半导体晶圆加工反应器，是最先进的超高密度等离子体反应器之一，可用于芯片蚀刻和沉积过程。它在优化的系统布局中包含了最新、先进的处理元件，包括电容耦合等离子体（CCP）源、等离子体源中的高场扫掠线圈、感应耦合等离子体（ICP）源和高分辨率气流分布器。高性能Mark II具有许多功能,非常适合挑战蚀刻作业。AMAT P5000 Mark II是一个双射频等离子体源系统，具有微波供电的ICP源和电容耦合平面（CCP）源。ICP源利用宽带扫描线圈提供极高的功率密度,即使在深层特征和高宽高比结构中也能实现高蚀刻速率。CCP源提供电子浴，以维持晶圆的均匀覆盖，即使在晶圆尺寸增加、晶圆厚度变化等过程变化中也是如此。应用材料P 5000 MARK II等离子体源中的高场扫掠线圈，加上微波等离子体源，有助于提供目前可用的最高沉积速率。这种特性能够沉积极光滑，甚至可以达到几百纳米深度的涂层。线圈是可调的，允许工艺工程师微调沉积速率以满足他们的特定需求。AMAT P 5000 MARK II的另一大特点是其高分辨率气流分销商。这一先进的特性有助于确保气体和反应物向等离子体腔的均匀可控的流动，使晶圆的所有部分都暴露在相同的均匀和所需的等离子体条件下。这确保晶片工艺能够在短时间内完成，达到传统手工工艺无法达到的统一程度。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是可用于芯片蚀刻和沉积过程的极致超高密度等离子体反应器。其众多的高性能特性包括宽带扫掠线圈、微波供电的ICP源和高分辨率气流分发器，允许精确的过程控制。其优化的系统布局确保了均匀的覆盖范围，对高长宽比结构和大晶圆尺寸具有重要意义。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II反应堆是一种尖端工具，是具有挑战性的蚀刻作业的绝佳选择。