二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9213668 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应器是一种等离子体增强化学气相沉积设备，针对需要高质量薄膜的沉积应用进行了优化。AMAT P5000 Mark II装有两个腔室，并提供两种工艺选择：IDPECVD（电离沉积工艺）和MPPECVD（Multi Plauna Power Enhanced Chemical Vapor Deposition）。IDPECVD是一种沉积过程，它是由电子束以相对较高的功率密度对沉积室内的前体气体进行高能轰击而引发的。MPPECVD是一种非高能沉积工艺，用于生产功率密度较低、均匀性较高的薄膜。这两种工艺都是生产质量、附着力和均匀性较高的薄膜的关键。PLIED MATERIALS P 5000 MARK II反应器采用顶载式装载装置设计，便于进入沉积室装卸晶片。顶部加载的基板机架使用户能够以较高的吞吐量速率加载600mm晶片。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应堆还装有用于高质量原位计量的高性能俯仰捕捉操纵器和用于精确即时反应控制的气体输送系统。为了提高AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反应堆的性能，该系统还包含了一些先进的测量和控制功能。其中包括能够独立频率转向和匹配的四点射频单元，即时动力控制，以及通过红外测量对薄膜厚度的反馈控制。此外，该机还能够测量薄膜厚度、光学特性和具有亚微米精度的电气特性。为确保安全和过程控制，AMAT P 5000 MARK II反应堆包括多项安全功能，如过温保护工具、过压保护资产和自动压力控制器。自动压力控制器精确控制腔室内的反作用压力，以确保每个过程的安全准确性能。P5000 Mark II反应器是一种先进的沉积模型，旨在为各种工业应用生产具有卓越均匀性、附着力以及光学、电气和热特性的高质量薄膜。该工艺专用反应堆配备了关键的安全特性和先进的计量、测量、控制系统，以实现可靠和可重复的性能。