二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313058 待售
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ID: 9313058
晶圆大小: 8"
CVD System, 8"
Gas panel facilities: Top feed multi-line
Gas panel exhaust: Top feed
Robot blade: Metal
Wafer type: Notch
Gas panel type: Version 4 hot box
Liquid source: Hot box
(3) TEOS Sources: Heated ampoule
EMO's: Momentary
Gas lines: (12) Lines
Robot type: Standard
System umbilicals: 25ft
MF Facilities: Rear
Mainframe: Phase II
Load lock slit valves: Chemrez
Heat exchanger 1: AMAT 0
VME Rack: Extended 21-slots
Hard Disk Drive (HDD): 4.5 GB
Chamber A:
Type: CVD Universal
Process A: BPSG TEOS
Lid type: Single gas feed-thru
Susceptor / Pedestal: TEOS
Heater / Cathode cooling: AMAT 0
Process kit type: Undoped TEPO
Slit valve O-ring: Chemraz
Chamber O-rings: Chemraz
HF Generator: OEM 12 B
RF Match: Phase 4 CVD
Dual manometer:
Manometer 1: 10 Torr
Manometer 2: 100 Torr
Chamber A gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type
Gas 1 / 4 Slm / N2 / UNIT 1661
Gas 2 / 2 Slm / O2 / UNIT 1661
Gas 3 / 3 Slm / C2F6 / UNIT 1661
Gas 4 / 1.5 Slm / He / UNIT 1661
Remote 1:
LFC Size / Liquid name / LFC Type / Gas stick
3 Slm / TEOS / UNIT 9660 / Nupro
Chamber B:
Type: CVD Universal
Chamber process: PRSP
Lid type: Single gas feed thru
Susceptor / Pedestal: TEOS
Heater / Cathode cooling: Steel head 0
Slit valve O-ring: Chemraz
Chamber O-rings: Chemraz
HF Generator: OEM 12 B
RF Match: Phase 4 CVD
Process kit type undoped TEOS
Dual manometer:
Manometer 1: 10 Torr
Manometer 2: 20 Torr
Chamber B gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type
Gas 1 / 5 Slm / N2 / UNIT 1661
Gas 2 / 3 Slm / O2 / UNIT 1661
Gas 3 / 2 Slm / C2F6 / UNIT 1661
Gas 4 / 1.5 Slm / He / UNIT 1661
Remote 1:
LFC Size / Liquid name / LFC Type / Gas stick
3 Slm / TEOS / UNIT 9660 / Nupro
Missing parts:
Mini SBC board
SBC Board
A/I
(3) DI/O
Hot box components
Gas box gas interface PCB
Power supply: 208 VAC. 400 Amp, 50 Hz Transformer.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一种前沿技术的加工反应器，用于各种蚀刻、薄膜沉积和热处理过程。其腔室容积可达5升，最高工作温度为950摄氏度。AMAT P5000 Mark II采用坚固的不锈钢结构,并采用带平面顶部的密封设计,便于长期传热效率。该设备还具有集成的温度控制、零件存储和自动清洁功能,可实现大批量生产。它的可编程循环控制能力还允许操作员轻松更改参数，以优化工艺条件，达到最大效率。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II可以定制，以容纳各种类型的液体、气体和固体用于其各种工艺。可用于化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、光级化学蚀刻、定向蚀刻，以及热处理。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II的温度也可以从室温调节到950摄氏度，间隔为10度，允许分批处理过程的一致性。它还配备了内置的安全装置，以防止气体积聚或泄漏等任何危险事件。此外，P 5000 MARK II可以与AMAT专有的加工气体结合，以最大限度地提高产品性能，提高系统的可靠性。该反应堆还具有直观的触摸屏界面，使操作员能够快速、轻松地访问控件。为了获得更多安全和过程控制,P5000 Mark II具有一个内置数据记录功能,可跟踪操作参数、启用远程诊断,并在参数超出预设限制时发出警报。凭借其先进的特性，AMAT P 5000 MARK II是航天、汽车、医疗设备和先进工业应用的绝佳选择。
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