二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313061 待售
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ID: 9313061
晶圆大小: 8"
优质的: 1993
Etcher, 8"
Gas panel facilities: Top feed single-line
Gas panel exhaust: Top feed
Robot blade: Metal
Wafer type: Notch
Gas panel type: UHP
EMO's: Momentary
Gas lines: (28) Lines
Robot type: Standard
System umbilicals: 25ft
MF Facilities: Rear
Mainframe: Phase II
Load lock slit valves: Viton
NESLAB Heat exchanger
VME Rack: Standard
Hard Disk Drive (HDD): 4.5 GB
Chamber A:
Chamber process: Oxide
Lid type: MxP+ Clamped
Susceptor / Pedestal: RIE
NESLAB Heater / Cathode cooling
Slit valve O-ring: Chemraz
Chamber O-rings: Chemraz
NESLAB Wall cooling
Single manometer: 1 Torr
Throttle valve: Direct drive
Gas valves: Nupro
Chamber clamps
Chamber B:
Chamber process: Oxide
Single manometer: Manometer 1 Torr
Throttle valve: Direct drive
Susceptor / Pedestal: RIE
NESLAB Wall cooling
NESLAB Heater / Cathode cooling
LEYBOLD Turbo pump
Chamber B gasses:
Gas / MFC Size / Gas name
Gas 1 / 100 Sccm / CHF3
Gas 2 / 200 Sccm / Ar
Gas 3 / 50 Sccm / CF4
Gas 4 / 200 Sccm / O2
Gas 5 / 20 Sccm / O2
Gas 6 / 100 Sccm / N2
Gas valves: Nupro
VME Rack and chamber parts missing
Power supply: 208 Vac. 400 Amp, 50 Hz Transformer
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应器是一种用途广泛、成本效益高的纳米加工、纳米干扰化和先进材料沉积工具。这座技术先进的反应堆设计有两个独立控制的高精度加热级，一个充满惰性气体的压力室和一个石墨敏感器。其最大90毫米的压力室允许通过创造高达1200 °C的高温处理来处理各种先进材料。双源系统允许同时涂覆先进材料,每种材料最多可接受四个源。可重复使用的磁化器由石墨构成，具有良好的导热性能，熔点高。在进行表面表征和样品分析等纳米干扰化实验时，使用感光器分别控制每个加热板的温度。磁感器还用于在需要沉积时蒸发金属和半导体薄膜等材料。每个基板的温度可以独立变化。石英管配有AMAT P5000 Mark II反应堆，提供惰性环境。石英管充满惰性气体，以保护先进材料不受氧化或其他与环境空气反应引起的降解。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反应器是一种用途广泛、成本效益高的纳米加工工具。其双源系统允许多种材料同时处理，其独立控制的加热级提供精确的温度控制。石墨敏感器确保了热量向基板的有效传递，惰性气体环境有助于保护先进材料免受氧化或降解。AMAT P 5000 MARK II反应器能够产生高达1200°C的高温处理，非常适合先进的材料沉积和纳米干扰化实验。
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