二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9389403 待售
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ID: 9389403
晶圆大小: 6"
优质的: 1993
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Cassette indexer, 6" Clamp
8-Slots elevator
(2) CRT Monitors
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
Electrical controller
Nupro bellows valve
EMO Option: Turn to release
EMO Button guard rings
(4) ENI OEM-12A RF Generators
HX Seperate mani fold
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue
Signal cable: 25"
Flash Hard Disk Drive (HDD)
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Mini-controller
Electrical controller:
(2) TC Gauge boards
Power rack, 12 VDC; (2) 15 VDC
Buffer I/O board
(2) Opto I/O boards
(4) Chopper driver power racks
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(4) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC 4400MC
Manual valve: Fujikin
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
(4) Pumping plates
(4) Ceramic focus rings
(4) Shower heads
(4) Blocker plates
(4) Heater windows
(4) Bellows susceptors
(4) Bellows wafer lifts
VME Controller:
1 / SBC Board
2 / SV21 SBC Board
3 / SEI Board
6 / VGA
7 / AO-1
8 / AI-1
9-12 / Stepper control board
13-16 / Digital I/O board
17 / -
19-20 / -
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应堆是一种高科技、高效的生产工具，用于一系列半导体制造和制造相关工艺。利用超高真空（UHV）退火技术和强大的5轴运动控制设备，AMAT P5000 Mark II反应堆被设计为在广泛的生产大气层中运行时实现精确和可重复的工艺结果。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反应堆是一个五区直列式特高压退火系统，每个区独立控制优化，使反应堆性能达到最佳。这三个热区都同时使用氦/氧/氢等离子体化学进行温度控制和纯化。此外，特高压环境创造了一个无分子物种的惰性环境，可以在结果中引入非均匀性。P 5000 MARK II反应堆的设计实现了工艺结果的最高重复性和重复性。5轴运动控制单元自动调整处理参数，而控制算法则提供一致且高度可重复的处理结果。AMAT P 5000 MARK II反应堆利用多项先进的特性来降低热预算，同时确保工艺结果可重复和统一。诸如腔室加工、自动气体输送机、惰性大气层和集成的感应耦合等离子体（ICP）源等特殊特性可以实现最佳腔室性能。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II的大型4.7升工艺室和石英玻璃管设计确保了工艺材料的高效运输。该腔室的构造是为了最大程度地提高工艺的均匀性，反射壁为热退火和等离子体工艺提供均匀的腔室覆盖。采用不锈钢结构，腔室提供坚固耐用的结构，具有温度和热冲击特性，适合较长的加工时间。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一个自动化过程解决方桉,具有自动化配方开发库、集成的监控工具和高级控制资产。直观的软件使用户能够快速、轻松地创建、修改和下载配方。集成监控模型为用户提供实时流程监控，允许用户在需要时对其流程进行准确更正。P5000 Mark II反应堆是一种强大、精确和可靠的工具，适用于广泛的过程。其精确的温度和运动控制，直观的软件和坚固的结构使其成为生产环境的理想选择。
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