二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9398766 待售
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已售出
ID: 9398766
晶圆大小: 8"
优质的: 2005
Etcher, 8"
Robot: P5000 std robot, 8"
(3) Chambers (A, B, C)
Type: M Chuck
Throttle valve type
ALCATEL Turbo
Turbo controller:
NT340M
(2) CFF 450
0010-09416 RF Matcher
Orienter chamber: D
OEM 12B-02 AC Rack generator
Gas box:
MFC: STEC 4400
Nupro manual valve
Pneumatic diaphragm valve: Nupro
Sub module:
(2) AMAT-0 Heat exchangers
HX-150 Chiller
P/N: 0010-76036 Mini controller
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反应堆是为制造半导体器件而设计的先进半导体加工工具。反应堆使用感应耦合等离子体(ICP)形成等离子体蚀刻过程。ICP是离子、电子和其他粒子在激发时形成等离子体的交流电(AC)。这种等离子体产生强烈的电场,导致加速的化学反应和材料的蚀刻。AMAT P5000 Mark II反应堆由温度范围为20 °-200°C的专属载荷锁和高分辨率LED显示屏组成,提供实时温度反馈。该系统还具有示例诊断和实时监控功能,以确保样本的准确性和性能。该反应器设计用于在蚀刻过程中保持均匀的等离子体,这是通过自动高压波长均衡器实现的,以确保稳定的等离子体源。这是在蚀刻过程中创建可靠和一致零件的一个重要因素,因为等离子体的波长可以根据功率、气流和压力而变化。单窗腔和6 N2冷却电感耦合等离子体源提高了精度和可重复性,提高了吞吐量。该反应堆还提供可选的单片操作,用于加工生产材料和原型材料。为了提高系统效率,由经验丰富的AMAT工程师组成的团队可以执行射频调节和故障排除,并提供优化和过程开发服务。还有一套支持软件可用于支持该系统的流程开发、自动化和监控。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反应器能够以可重复和可重复的方式制造具有单个晶片工艺的半导体器件,这对于实现可靠、经济高效的产品至关重要。因此,P5000 Mark II是工业制造所有半导体器件类型的理想工具。
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