二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181093 待售
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ID: 181093
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
Etch Chamber, 8"
Process: 50 and 55 spacer
Loading Configuration: 2 Cassette Handler/ 29 Slot Storage
System Power Rating: 208VAC 3-Phase
Software Version: L4.70B
Mainframe body
System AC power box
CRT monitor/Monitor Base/Light pen
ESC Type Electrostatic
1Torr Manometer MKS 127AA-00001B
Turbo pump model and size Seiko Seiki 301CB1
Turbo pump controller SCU-21D
Cathode Chiller model AMAT Neslab HX150
Wall Chiller model AMAT Steelhead 1 CHX
EP system Monochrometer
Heater Stack/Gate valve Standard
RF generator model ENI OEM-12B
RF match model Hybrid RF Match
IHC manometer 10 Torr Manometer
IHC mfc size 20 sccm
High Voltage Module Chuck
Etch Chamber A: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2
Etch Chamber B: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP是一种处理设备,其设计目的是在一系列批处理和单晶圆应用中实现最大的灵活性和性能。MxP是一个反应堆系统，具有一个自动处理室，包括预先安装的多端口负载锁、静电卡盘和基板加热元件、气体和液体源的三个输入/输出端口以及一系列过程控制和监测组件。该单元配备了先进的晶圆放置视觉机，以及用于精密基板处理的运动控制。MxP为各种应用提供高温固相薄膜和接口。通过其内置的多阶段热过程，MxP执行退火和扩散过程。此外，MxP还提供先进的氧化和化学气相沉积（CVD）工艺。它的等离子体源使无定形SiO2膜、等离子体氮化膜和等离子体掺杂膜的产生成为可能。MxP采用实时过程监控、自动晶圆处理和智能配方开发，以确保晶圆特性的准确性。它的操作员界面通过允许审查和选择配方和参数来提供每个流程步骤的可见性和控制性。室内环境用实时工艺参数密切监控，包括温度、压力、等离子体水平和工艺气体。此外，AMAT还提供了其他几种专门为增强MxP性能而设计的解决方桉。这些解决方桉包括当前和即将推出的MxP反应堆版本，以及支持MxP革命性能力的交钥匙工艺解决方桉。AMAT P5000 MxP旨在为用户提供最大限度地提高设备性能的能力,使他们能够利用各种热过程。MxP反应堆具有精确的温度控制、卓越的制造工具和工艺监控能力，是广泛应用的理想选择。
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