二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #186745 待售

ID: 186745
晶圆大小: 6"
优质的: 1996
Metal etch system, 6" (2) Metal chamber (1) ASP chamber 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor是一种先进的物理气相沉积(PVD)室,设计用于半导体工业。AMAT P5000 MxP利用突破性技术提供卓越的沉积性能,最大限度地提高晶圆吞吐量,并以最小的人工干预来控制过程。APPLICED MATERIALS P5000 MxP配备了一个强大的单一淋浴喷头源,能够同时向基板输送多达六个独立的物料源,同时继续提供出色的工艺一致性。该腔室采用开放式装载室设计,能够容纳各种基板、形状和尺寸。此外,该腔室还装有一个分体式升降机,可方便地将直径不超过12英寸的基板升起。先进的P5000 MxP工艺控制设备保证了卓越的工艺控制和均匀性.利用它的多点等离子体控制,用户能够控制多达八个不同的气源以维持精确的等离子体环境。此外,流程配方管理还可以方便地访问、存储或复制多达100种配方。AMAT/APPLICED MATERIALS P5000 MxP的每一个方面都是考虑到用户的设计。例如,自动水冲洗系统不断冲洗主工艺室,收集和清除颗粒和污染物,以确保最佳性能和无颗粒晶片。AMAT P5000 MxP的精确过程控制还可以快速表征导体和电介质,以及精确优化沉积过程以提高产量。为了提高安全性和工艺性能,APPLIED MATERIALS P5000 MxP采用了先进的边缘泄漏检测装置。这台机器检测和显示从腔室边缘等离子体泄漏提供了更大的安全裕度。总之,P5000 MxP提供了性能和过程控制的无与伦比的组合,并以可靠可靠的设计为后盾。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP通过其先进的淋浴源和快速配方管理相结合,为质量最高的晶圆提供了极好的速度和工艺一致性。
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