二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9127952 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor是一种用途广泛、功能强大的半导体工业加工工具。这台先进的机器旨在将化学蒸气转移到基板上，从而实现先进的半导体制造工艺。AMAT P5000 MxP Reactor配备了先进而强大的等离子体发生器，具有集成的有源微波阵列和强大的63 MHz射频（RF）发生器。这种组合提供了在大范围的基材尺寸上精确控制蚀刻和沉积过程的能力。在沉积过程中，应用材料P5000 MxP反应器利用先进的高密度等离子体（HDP）技术沉积单层或多层薄膜，具有极好的均匀性、阶梯覆盖率和垂直轮廓。这种用途广泛的反应堆与各种底物和薄膜材料配合使用，允许各种薄膜被精确地沉积。对于蚀刻，P5000 MxP Reactor使用独特的磁模式来实现对蚀刻化学和蚀刻速率的精确控制。由于磁模蚀刻提供了改进的垂直蚀刻轮廓和改进的模具均匀性,因此这种电源过程不需要复杂的外部偏置系统。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor通过其工艺模块提供了灵活性和多功能性。这些模块旨在实现蚀刻和沉积过程的并行处理,从而提高过程吞吐量。模块化设计还使用户能够将流程与AMAT P5000 MxP结合起来，从而在单个平台上提供创新的流程步骤。此外，应用材料P5000 MxP反应堆利用了广泛的基材和基材。其中包括直径范围从2英寸到8英寸的单面和双面基板。再者，P5000 MxP反应堆还支持各种底物材料，包括但不限于二氧化硅、氮化铝和氮化硅。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor是一种功能强大且用途广泛的半导体制造工艺工具。其独特的能力，如高密度等离子体沉积和磁模蚀刻，提供了对蚀刻和沉积化学的精确控制，以及处理各种底物和薄膜材料的能力。因此，AMAT P5000 MxP Reactor可以为当今先进的半导体制造工艺提供必要的工艺灵活性和吞吐量。
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