二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9177952 待售
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ID: 9177952
晶圆大小: 8"
优质的: 1993
System, 8"
Chamber type Process
Ch-A: Mxp Metal etch
Ch-B: MxP Metal etch
Ch-C: ASP P/R Strip
Process kit Manometer
Ch-A: Metal STD 1 Torr/MKS
Ch-B: Metal STD 1 Torr/MKS
Ch-C: Qtz 10 Torr/MKS
Clean method Throttle valve
Ch-A: RF Clean Yes
Ch-B: RF Clean Yes
Ch-C: - Yes
Turbo pump Magnet driver
Ch-A: Yes Yes
Ch-B: Yes Yes
Gas box MFC Gas name
Ch-A: Yes -
Ch-B: Yes -
Ch-C: Yes -
VME Type:
HDD: Yes
Controller slot: (21) Slots
SBC Board type: SV21 Synagy
Boss rom ver: Boss 4.8
Video board type: VGA Video
FDD: 3.5"
Robot type: Phase III
Cassette handler: Phase III (top clamp)
Sto elevator type: (8) Slots
I/O Wafer sensor: Yes
WPS Sensor: Yes
L/Lock slow vent: Yes
Slit valve type: Standard
L/Lock purge: Yes
RF Gen I/II type RF Match
Ch-A: OEM 12A Phase VI
Ch-B: OEM 12A Phase VI
Ch-C: AX2115 Manual match
EPD: E2.8
Exhaust line: Top, standard
EPD Method: Monocrometer
Gas panel: (12) Gas lines
Monitor: TTW
Mini controller: No
H/E: AMAT 0
Chiller: NESLAB
1993 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS P5000 MxP+是一种反应器，旨在为生产高质量、尖端的半导体产品提供先进的高性能薄膜沉积。该工具利用高真空和原位温度感测能力实现沉积和处理。AMAT P5000 MxP+可用于多种沉积技术，如CVD、MOCVD和ALD。APPLICED MATERIALS P5000 MxP+采用高精度直线轴承密封的真空室和高强度间接控制泵送设备设计。这种设计确保了坚固可靠的真空质量，最大腔室压力为1.33 x 10-4 Torr。反应堆还具有高温运行范围，温度最高可达1000 °C。这样就可以沉积高质量和高性能的体系结构。该系统还设有一个先进的原位诊断单元，对沉积过程进行可靠的实时监测。这台功能强大的机器可以实现连续性和统一性的自动化流程开发。对于任何想要优化沉积过程的客户来说,这都是一个很大的优势。P5000 MxP+还设计了集成的安全功能,可防止发生任何危险情况。这包括激光互锁、工艺互锁和射频屏蔽。互锁工具还监视过程,以确保腔室参数保持在设置点值以下。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS P5000 MxP+提供了一个可定制的集成自动化软件,允许自定义过程逻辑和资产配置。该软件具有极好的用户友好界面，提供对反应堆的控制，而无需任何外部编程技能。总体而言，AMAT P5000 MxP+是一种非常先进和坚固的反应堆模型，非常适合开发尖端的半导体产品。凭借其高真空能力、集成温度感应、原位诊断设备以及各种安全措施，该系统为客户提供了他们在产品中想要的优越品质。
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